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研磨均质机 :颠覆传统胶体磨力作

日期:[2015-05-25]

 研磨均质机 :颠覆传统胶体磨力作

 
CMD2000系列研磨分散设备是IKN(上海)公司研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变更为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)   研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。第一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
 
 
 

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