胶体磨的改进和增设控制模块

胶体磨的改进和增设控制模块

胶体磨的改进结构设计和增设现代控制模块技术方面:

A、在调节盘后方和静磨片前面设置活动垫圈，替代传统的平面、轴承滑动作用，减少调节盘活动公差，并且在无润滑油的情况下，增强调节盘的调节灵巧，结构简单、精度高，稳定好。 (胶体磨.colloidmill转子泵 研磨机 打浆机 钛白研磨泵 均质泵 混合机 乳化机 )

B、胶体磨的转子、定子采用锥形设计一体化，同时本机器采用定位盘定位结构，使转子、定子的间距调节进退平稳，操作简便，能够达到迅速到位。